Mikroelektronik

Die Mikroelektronik ist ein Teilgebiet der Elektrotechnik bzw. der Elektronik, welches sich mit der Miniaturisierung von elektronischen Schaltungen befasst.

Die Mikroelektronik hat zwei Hauptmerkmale:

Inhaltsverzeichnis

Anwendungen

Bauelemente der Mikroelektronik wurden ursprünglich für die Anforderungen der Raumfahrt nach kleinen und leichten Bauteilen entwickelt. Sie sind heute in einer Vielzahl technischer Geräte und Einrichtungen zu finden:

An dieser Stelle kann nur eine exemplarische Auswahl genannt werden - es gibt sowohl in den genannten Gebieten eine Vielzahl weiterer Anwendungen als auch eine Reihe hier nicht genannter Anwendungsgebiete, wie Medizintechnik, Kommunikationstechnik, Gebäudetechnik und vieles mehr.

Bauelemente

Die mikroelektronischen Bauelemente lassen sich zunächst in zwei große Gruppe einteilen: Standardbausteine und Anwendungsspezifische:

Neben dieser Systematik wird eine Gruppe von Bauelementen meist extra aufgeführt:

Fertigungstechnik

Man unterscheidet die Festkörpertechnik (auch: monolithische Fertigung) von den Filmtechniken.

Entwicklung mikroelektronischer Bauelemente

Beim Chipentwurf geht es darum, die Grundelemente der mikroelektronischen Schaltungen - Transistoren, Passive Bauteile, Leiterbahnen - logisch zu der gewünschten Funktion zu verknüpfen, geometrisch auf der Siliziumfläche anzuordnen und physikalisch ihr Verhalten zu modellieren. Die spezifischen Charakteristika der Mikroelektronik haben dazu geführt, dass sich ein spezieller Entwurfsprozess ausgebildet hat.

Gründe und Folgen der Miniaturisierung

Seit Gordon Moore 1965 das nach ihm benannte 'Gesetz' formulierte, dass sich die Anzahl der Transistoren auf einem Chip alle zwölf Monate (später achtzehn Monate) verdopple, hat die Mikroelektronik tatsächlich sowohl in Hinblick auf Integrationsdichte als auch bei der Verkleinerung der Strukturen kontinuierliche Fortschritte gemacht.

Der Treiber für die Verkleinerung der Strukturen ist die Senkung der Fertigungskosten. Die Fertigung von Mikrochips erfolgt auf Halbleiterscheiben (Wafer) konstanter Größe (tatsächlich gibt es eine Evolution der Scheibengrösse über die Zeit, aber die ist für diese Betrachtung hinreichend langsam). Daher lassen sich die Fertigungskosten zunächst als Summe der Prozesskosten pro Wafer beschreiben (mit einer gewissen Abstraktion und unter Vernachlässigung der Kosten für Test und Gehäusung der ICs). Insofern gibt es auf die Fertigungskosten pro Chip zwei Hebel:

Ersteres nimmt durch die Minimierung der Strukturbreite überproportional zu (Flächenreduktion = Längenmassreduktion^2 + bessere Randausnutzung - nichtlineare Effekte). Zweiteres (die Prozesskosten der Strukturierungsprozesse und die Anzahl notwendiger Prozessschritte) nehmen jedoch mit steigender Miniaturisierung meist ebenfalls zu. Bis heute (2004) hat die Halbleiterindustrie damit eine durchschnittliche Fertigungskostenreduktion von 30% pro Jahr erreicht. Ein mögliches Szenario kann es sein, dass die Zunahme der Prozesskosten bei Annäherung an physikalische Grenzen nicht mehr hinreichend durch die Einsparung der Chipfläche kompensiert werden kann und der Fortschritt in der Miniaturisierung sich dadurch verlangsamt bzw. endet.

Die hohe konstante Fertigungskostenreduktion in der Mikroelektronik war ein wesentlicher Innovationsmotor der letzten dreißig Jahre in einer Vielzahl von Branchen - nicht allein in der Elektronik und Computertechnik (siehe Anwendungen).

Neben der Kostensenkung gibt es aber auch andere Effekte der Miniaturisierung:

Ökonomie

Der Industriezweig, der sich mit der Herstellung von mikroelektronischen Bauteilen beschäftigt - die Halbleiterindustrie - zeigt zwei Eigenschaften, die ihn von anderen unterscheidet.

Geschichte

Die entscheidende Grundlage für die Mikroelektronik wurde 1948 mit der Erfindung des Transistors gelegt. Ab 1961 wurden erste integrierte Schaltkreise mit wenigen Bipolartransistoren und Widerständen realisiert. In den 1970er Jahren wurden höhere Transistordichten mit einigen tausend Bauelementen realisiert. Dies wird als Großintegration (LSI Large Scale Integration) bezeichnet. Die bipolaren Transistoren wurden durch Feldeffekttransistoren FETs, meist in der Form von leicht herstellbaren MOSFETS (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) ersetzt. 1979 begann die Größtintegration (VLSI Very Large Scale Integration) mit heute mehreren Millionen Transistorfunktionen und früher unerreichbaren Taktfrequenzen von mehreren Gigahertz. Die Größe des Einzelbauteils ist dabei unter einem Mikrometer. Zunehmend werden auch ganze Systeme (Kombination mehrerer Baugruppen, wie Prozessoren, Schnittstellenschaltungen und Speichern) auf einem einzelnen Chip realisiert (SoC System on Chip).

Zukünftige Entwicklungen

Siehe auch

See also: Mikroelektronik, 1961, 1970, 1979, Airbag, Analogtechnik, Applikationsspezifische Standardprodukte, Arbeitsspeicher, Atom, Bipolartransistor